2025
01-06
减少减薄碳化硅纹路的方法
一、引言碳化硅（SiC）作为一种高性能半导体材料，因其出色的热稳定性、高硬度和高电子迁移率，在电力电子、微电子、光电子等领域得到了广泛应用。在SiC器件的制造过程中，碳化硅片的减薄是一个重要环节，它可以提高器件的散热性能，并有助于降低制造成...
2025
01-06
白光干涉中，通过样品台的移动，实现机械相...
一、基本原理在白光干涉仪中，光源发出的光经过扩束准直后，通过分光棱镜被分成两束相干光：一束作为参考光，经过固定的光路到达干涉仪的接收屏；另一束作为待测光，经过样品台后被反射或透射，再与参考光相遇产生干涉现象。干涉条纹的形成取决于两束光的相位...
2025
01-03
高温大面积碳化硅外延生长装置及处理方法
碳化硅（SiC）作为一种具有优异物理和化学性质的半导体材料，在电力电子、航空航天、新能源汽车等领域展现出巨大的应用潜力。高质量、大面积的SiC外延生长是实现高性能SiC器件制造的关键环节。然而，SiC外延生长过程对温度、气氛、衬底质量等因素...
2025
01-03
白光干涉的技术演变过程
一、初步应用阶段在20世纪五六十年代，国内外相继出现了一些应用型白光干涉仪。这些干涉仪主要采用人工操作、读数、计算和测量评定某个参数，效率相对较低。这一时期的白光干涉技术主要应用于简单的表面形貌测量和厚度测量等领域。二、智能化与自动化发展阶...
2025
01-02
检测碳化硅外延晶片表面痕量金属的方法
碳化硅（SiC）作为新一代半导体材料，因其出色的物理和化学性质，在电力电子、微波器件、高温传感器等领域展现出巨大的应用潜力。然而，SiC外延晶片在生产过程中可能会引入微量的金属杂质，这些杂质对器件的性能和可靠性有着至关重要的影响。因此，开发...
2025
01-02
白光干涉中的机械相移，对于反射镜移动的技...
一、反射镜移动精度要求高白光干涉测量对光程差的改变非常敏感，即使是微小的移动也会导致显著的相位变化。因此，反射镜的移动必须非常精确，通常要达到纳米级别。这种高精度的移动要求机械系统具有极高的稳定性和分辨率。二、机械系统稳定性挑战反射镜的移动...