2024
12-12
晶圆单面抛光的装置及方法
晶圆单面抛光的装置及方法主要涉及半导体设备技术领域，以下是对其详细的介绍：一、晶圆单面抛光装置晶圆单面抛光装置通常包含以下关键组件：工作台：作为整个抛光装置的基础，用于支撑和固定其他组件。工作台下方通常设置有伺服电机，用于提供抛光过程中的动...
2024
12-11
“显示分辨率”与“分辨率”的区别
显示分辨率定义：显示分辨率，也称为像素分辨率，是指显示器在显示图像时的分辨率，它表示显示器上水平像素和垂直像素的总数。例如，1920×1080的分辨率意味着显示器可以水平显示1920个像素点，垂直显示1080个像素点。特性：显示分辨率是衡量...
2024
12-11
外差式激光干涉技术原理
一、基本原理外差式激光干涉仪通常由两束相干激光器组成，分别称为信号光和参考光。这两束激光光束经过分束器分成两束光线，其中一束经过样品或待测物体，另一束光则作为参考光直接到达探测器。这两束光线接着通过合束器重新合成成一束光线，以产生干涉图样。...
2024
12-10
控制12寸再生晶圆双面抛光平坦度的方法有...
控制12寸再生晶圆双面抛光平坦度的方法主要包括以下几种：一、采用先进的抛光设备和技术双面抛光设备：使用双面抛光设备对晶圆进行加工，这种设备能同时控制工件的两面，有效地避免应力差与粘结误差引起的变形问题。化学机械抛光（CMP）技术：CMP技术...
2024
12-06
基于石英玻璃外延GaN的工艺改进方法有哪...
基于石英玻璃外延GaN的工艺改进方法主要包括以下几个方面：一、晶圆片制备优化多次减薄处理：采用不同材料的浆液和磨盘对石英玻璃进行多次减薄处理，可以制备出预设厚度小于70μm且厚度均匀性TTV为±0.5μm的晶圆片结构。这种方法避免了石英玻璃...
2024
12-06
有什么方法可以去除晶圆键合边缘缺陷?
去除晶圆键合边缘缺陷的方法主要包括以下几种：一、化学气相淀积与平坦化工艺方法概述：提供待键合的晶圆。利用化学气相淀积的方法，在晶圆的键合面淀积一层沉积量大于一定阈值（如1.6TTV）的氧化物薄膜。对氧化物薄膜进行致密化工艺。对经致密化工艺后...