2025
02-07
白光干涉仪的光谱干涉模式原理
白光干涉仪的光谱干涉模式原理主要基于光的干涉和光谱分析。以下是对该原理的详细解释：一、基本原理白光干涉仪利用干涉原理测量光程之差，从而测定有关物理量。在光谱干涉模式中，白光作为光源，其发出的光经过扩束准直后，通过分光棱镜等光学元件被分成两束...
2025
02-07
碳化硅外延晶片硅面贴膜后的清洗方法
引言碳化硅（SiC）外延晶片因其卓越的物理和化学特性，在功率电子、高频通信、高温传感等领域具有广泛应用。在SiC外延晶片的制备过程中，硅面贴膜是一道关键步骤，用于保护外延层免受机械损伤和污染。然而，贴膜后的清洗过程同样至关重要，它直接影响到...
2025
02-06
碳化硅晶片表面金属残留的清洗方法
引言碳化硅（SiC）作为一种宽禁带半导体材料，因其出色的物理和化学性质，在电力电子、微波器件、高温传感器等领域具有广泛的应用前景。然而，在SiC晶片的制备和加工过程中，表面金属残留成为了一个亟待解决的问题。金属残留不仅会影响SiC晶片的电学...
2025
02-06
白光干涉仪中的VSI和PSI以及VXI模...
白光干涉仪是一种高精度的光学测量仪器，它利用白光干涉原理来测量物体表面的形貌和高度等信息。在白光干涉仪中，垂直扫描干涉测量模式（VSI）、相移干涉测量模式（PSI）以及结合VSI和PSI的高分辨测量模式（VXI）是三种重要的测量模式。以下是...
2025
01-23
迈克耳孙干涉仪白光等倾干涉的实现、条纹特...
迈克耳孙干涉仪白光等倾干涉的实现、条纹特征及形成机理是光学研究中的重要内容。以下是对这些方面的详细解释：一、迈克耳孙干涉仪白光等倾干涉的实现迈克耳孙干涉仪利用分振幅法产生双光束以实现干涉。在白光等倾干涉的实验中，需要在迈克耳孙干涉仪的反射镜...
2025
01-23
碳化硅衬底的特氟龙夹具相比其他吸附方案，...
一、引言随着碳化硅在半导体等领域的广泛应用，对其衬底质量的检测愈发关键。BOW（翘曲度）和 WARP（弯曲度）是衡量碳化硅衬底质量的重要参数，准确测量这些参数对于保证器件性能至关重要。而不同的吸附方案会对测量结果产生不同程度的影响。二、常见...